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联盛半导体取得硅片清洗设备专利减少硅片表面氧化提高产品质量

作者:小编时间:2024-11-14 22:00 次浏览

信息摘要:

  金融界2024年11月14日消息,国家知识产权局信息显示,联盛半导体科技(无锡)有限公司取得一项名为“一种硅片清洗设备”的专利,授权公告号CN 22...

  金融界2024年11月14日消息,国家知识产权局信息显示,联盛半导体科技(无锡)有限公司取得一项名为“一种硅片清洗设备”的专利,授权公告号CN 221994420 U,申请日期为2023年12月。

  专利摘要显示,本实用新型公开了一种开元体育 开元体育官网硅片清洗设备,涉及硅片清洗装置领域。所述硅片清洗设备包括机架、控制装置、若干硅片清洗花篮、抓取装置,机架上从左向右依次安装有清洗室、清洗花篮架输送机构、清洗花篮架存取槽,清洗花篮架存取槽与清洗花篮架输送机构之间设有烘干槽、超声波清洗槽;清洗花篮架存取槽内放置有硅片清洗花篮;通过将硅片清洗花篮送入超声波清洗槽、清洗室进行清洗并通过烘干槽进行烘干。本实用新型开元体育 开元体育官网可在清洗室外进行超声波与处理后,快速水平开元体育 开元体育官网将清洗花篮送入密闭的清洗室内,快速在清洗时室快速在不同清洗槽内转换,清洗完成后快速进行烘干,减少硅片表面氧化,提高产品质量。

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